Зеркала для лазеров Отражающие зеркала для оборудования лазерной маркировки, оборудования лазерной гравировки и оборудования лазерной резки

Запрос цены

Веб-сайт: http://efrlaser.ru/6-1-total-reflector/200489/index.html

Страна-производитель: Китай
Категория: Оптические линзы, оптические аксессуары

Запросить расценки

Применение:
Лазерная резка, лазерная гравировка, лазерная маркировка и другие виды лазерной обработки в различных областях, включая рекламный бизнес, упаковочную промышленность, производство декоративной продукции, декоративных отделочных материалов, одежды и так далее.

Описание:
Отражающие зеркала для лазеров – это важный элемент системы передачи лазерного луча. Отражающие зеркала и фокусирующие линзы для лазеров используются для формирования оптического пути. Отражатель уменьшает занимаемое лазерными установками на углекислом газе пространство, позволяет уменьшить потери света и сохранить мощность лазера. Это идеальные оптические аксессуары для лазерного оборудования, включая оборудование для лазерной резки, оборудование для лазерной гравировки и оборудование для лазерной маркировки.

Компания EFR специализируется на поставке зеркал полного отражения, включая зеркала полного отражения Mo и зеркала полного отражения Si.

Отражающие зеркала для лазеров обычно применяют в качестве подложки молибден и кремний. Молибденовые отражающие зеркала не используют покрытие, они выдерживают высокую мощность лазера и подходят для суровых условий эксплуатации. Их можно очищать, они имеют большой эксплуатационный ресурс, но низкую отражательную способность.

Кремниевые отражающие зеркала имеют замечательные термооптические характеристики. На сегодня это наиболее часто используемые отражательные линзы для лазерного оборудования. Эти оптические зеркала используют в качестве подложки монокристаллический кремний и покрываются диэлектриком. Кремниевые зеркала для лазеров на углекислом газе имеют высокий коэффициент отражения. Кремниевые отражающие зеркала можно очищать, они имеют легкий вес и обладают отличным сопротивлением к окислению.

Спецификация

Технический параметр	Значение
Геометрический допуск	0/-0.1мм
Допуск по толщине	±0.1мм
Чистота обработки поверхности	S 1: 40- 20, S2: точное шлифование
Параллелизм	＜ 1′
Эффективная апертура	＞ 90%
Фацетирование	＜ 0.2 ×45°
Покровная пленка	высокоотражающая пленка